隨著市場(chǎng)上對(duì)成像質(zhì)量要求的不斷提高，高精度的光學(xué)非球面鏡逐漸在光學(xué)儀器、空間激光通信、航空航天等領(lǐng)域中得到重要應(yīng)用。與傳統(tǒng)球面鏡相比，非球面鏡片通過設(shè)計(jì)不一致的曲率半徑，讓近軸光線與遠(yuǎn)軸光線所形成的焦點(diǎn)位置重合，減小波像差、彗差、畸變等光學(xué)像差的大小，有效修正了球面影像，并避免了球面鏡片需要增加透鏡來實(shí)現(xiàn)成像質(zhì)量的問題，有利于實(shí)現(xiàn)更小、更輕量化的光學(xué)系統(tǒng)。

非球面透鏡及其與球面透鏡的成像對(duì)比

不過這種不一致的曲率半徑，也為其精密拋光帶來了極大難題：

1、面型精度要求高：非球面鏡的曲率半徑是經(jīng)過特定設(shè)計(jì)的，因此對(duì)面形精度要求極高，對(duì)拋光技術(shù)也提出了極高的要求。

2、拋光路徑難規(guī)劃：非球面只有一個(gè)回轉(zhuǎn)對(duì)稱軸，離軸非球面甚至沒有回轉(zhuǎn)對(duì)稱軸，非球面上各處曲率不一致，不僅無(wú)法采用常規(guī)球面的加工方法，而且也難以規(guī)劃處科學(xué)合理的拋光路徑。

適用于非球面鏡頭的拋光技術(shù)

以往非球面鏡采用是的經(jīng)典研拋技術(shù)，即先利用單/多軸機(jī)研拋出與非球面*接近的球面，再根據(jù)設(shè)計(jì)對(duì)局部研拋修形，該方法不僅完全依賴人工經(jīng)驗(yàn)，有較大的盲目性，并且效率低，無(wú)法保證加工的穩(wěn)定性。為此，科學(xué)家們結(jié)合計(jì)算機(jī)技術(shù)、自動(dòng)控制技術(shù)、彈性力學(xué)基礎(chǔ)理論等，開發(fā)了多種曲面拋光技術(shù)，包括計(jì)算機(jī)控制小磨頭加工技術(shù)以及 射流拋光、離子束拋光、磁流變拋光、應(yīng)力盤拋光等可控柔性光學(xué)拋光技術(shù)。

01計(jì)算機(jī)控制小磨頭加工技術(shù)（CCOS）
計(jì)算機(jī)控制小磨頭拋光技術(shù)是一種結(jié)合傳統(tǒng)研拋經(jīng)驗(yàn)和現(xiàn)代數(shù)控技術(shù)的先進(jìn)工藝方法，隨著技術(shù)日趨完善， 現(xiàn)已逐步替代傳統(tǒng)研拋技術(shù)成為我國(guó)非球面鏡加工的主流技術(shù)。實(shí)際加工時(shí)，可以將目標(biāo)工件表面形貌數(shù)據(jù)提前輸入控制系統(tǒng)中，根據(jù)具體拋光環(huán)境，通過對(duì)工具頭駐留時(shí)間、速度、拋光軌跡、拋光壓力等主要因素以及拋光液PH值和濃度、工具姿態(tài)角、溫度等次要條件進(jìn)行控制，并反復(fù)地檢測(cè)、加工，從而使光學(xué)表現(xiàn)的面形精度與目標(biāo)面型精度的誤差不斷減小，*終達(dá)到目標(biāo)面型精度。

計(jì)算機(jī)控制小磨頭加工技術(shù)的應(yīng)用

相對(duì)于經(jīng)典研拋技術(shù)，CCOS屬于一種確定性的加工手段，可以對(duì)整個(gè)光學(xué)曲面的拋光過程進(jìn)行盡可能的模擬，從而達(dá)到比較高的加工精度。但由于工具頭較小，對(duì)于大口徑非球面鏡的研拋CCOS同樣存在加工效率低的問題。此外，研拋盤隨著工作時(shí)長(zhǎng)的增加會(huì)發(fā)生磨損，進(jìn)而導(dǎo)致去除函數(shù)無(wú)法保持長(zhǎng)期穩(wěn)定，對(duì)精度也有一定影響。

02應(yīng)力盤拋光技術(shù)
為提高小磨頭在非球面光學(xué)元件加工過程中的加工效率，通常會(huì)選用更大尺寸的磨頭來實(shí)現(xiàn)高去除量，常用磨盤作為大尺寸磨頭。但是，由于較大口徑的磨盤與非球面光學(xué)元件的吻合度不大，導(dǎo)致無(wú)法完成高精度的加工。針對(duì)這一問題，科學(xué)家們將目光放到了對(duì)磨頭（拋光盤）的優(yōu)化上，開發(fā)了應(yīng)力盤拋光技術(shù)。

應(yīng)力盤拋光技術(shù)是對(duì)研拋盤進(jìn)行能動(dòng)變形再對(duì)工件進(jìn)行拋光的技術(shù)，具體來說是在應(yīng)力盤徑向平移和旋轉(zhuǎn)的動(dòng)態(tài)研磨拋光過程，由計(jì)算機(jī)實(shí)時(shí)控制應(yīng)力盤，使盤面產(chǎn)生動(dòng)態(tài)形變以與被加工非球面的理論面形吻合，從而保證在主動(dòng)盤加工過程中磨盤與非球面貼合，更加穩(wěn)定地去除材料。

與CCOS技術(shù)相比，應(yīng)力盤拋光技術(shù)具有較高的加工效率，且可優(yōu)先去除表面高點(diǎn)，修正平滑局部中高頻誤差效，可使得磨制的鏡面在較大的空間頻率范圍內(nèi)自然平滑，非常適合大口徑光學(xué)非球面的加工，使目前實(shí)現(xiàn)2m級(jí)、4m級(jí)甚至8m級(jí)主鏡高效高精度加工的主要技術(shù)之一。不過，由于需要調(diào)整驅(qū)動(dòng)器改變彎矩、扭矩使應(yīng)力盤始終與工件表面貼合，控制較為復(fù)雜。

03氣囊拋光技術(shù)
氣囊拋光仍然采用CCOS的基本修形理論，采用的拋光磨頭為具有一定壓力且表面粘附了一層聚氨酯拋光墊的柔性氣囊。拋光時(shí)，可根據(jù)被拋光光學(xué)元件尺寸、面形，實(shí)時(shí)調(diào)節(jié)氣囊內(nèi)部氣壓，使得拋光磨頭與工件表面幾乎完全吻合，保證光學(xué)元件上的局部拋光區(qū)的去除函數(shù)相同，可以有效地提高表面粗糙度及控制加工后面形精度；同時(shí)氣囊拋光的的整個(gè)過程由CNC系統(tǒng)控制，以“進(jìn)動(dòng)”方式（類似陀螺運(yùn)動(dòng)方式）按照設(shè)定路徑速度和壓力對(duì)工件實(shí)施拋光，參數(shù)靈活可控，確保了在拋光過程中材料去除的穩(wěn)定性。

氣囊拋光機(jī)結(jié)構(gòu)及原理

目前，在光刻物鏡的加工中，氣囊拋光技術(shù)已經(jīng)作為離子束拋光前期的主流加工技術(shù)。但是由于氣囊拋光的拋光斑尺寸小、材料去除率小，在加工米級(jí)以上的大口徑非球面時(shí)所需的加工時(shí)間很長(zhǎng)，并且容易產(chǎn)生中高頻誤差。

04磁流變拋光
磁流變拋光技術(shù)是一種融合了電磁學(xué)、分析化學(xué)和流體動(dòng)力學(xué)等理論的新型加工技術(shù)，其“拋光磨頭”為磁流變液在梯度磁場(chǎng)中發(fā)生流變而形成的具有粘塑特性的“柔性拋光模”，其形狀和硬度均可由磁場(chǎng)實(shí)時(shí)控制。拋光時(shí)，磁流變液形成的“磨頭”在接觸區(qū)域形成剪切力，調(diào)整工件的旋轉(zhuǎn)角度和速度可實(shí)現(xiàn)工件表面材料各向均勻去除，得到光滑表面。

磁流變拋光裝置結(jié)構(gòu)（a）及原理（b）

與傳統(tǒng)加工方法相比較，磁流變拋光法可以通過調(diào)整磁場(chǎng)強(qiáng)度，引起固化磁流變液形狀和硬度的變化，實(shí)現(xiàn)光學(xué)元件的定量去除具有很高的拋光效率，而且被加工光學(xué)元件表面不會(huì)隨著應(yīng)力的改變而發(fā)生形變，可避免下表面破壞層的產(chǎn)生，能夠確保獲得很高的面形質(zhì)量；此外，由于磁流變形成的拋光頭不會(huì)出現(xiàn)磨損的現(xiàn)象，因此保證了去除函數(shù)的完整連續(xù)性。然而磁流變拋光只適用于任意曲率半徑的凸曲面，對(duì)于凹曲面，其曲率半徑要大于拋光輪的半徑。目前美國(guó)QED公司，已經(jīng)研制出了2m～4m加工 口徑的磁流變拋光設(shè)備，并已用于大口徑天文光學(xué)非球面鏡的高精度加工。

05磨料射流拋光
磨料射流拋光是在純水射流技術(shù)基礎(chǔ)上發(fā)展而來的一種針對(duì)復(fù)雜光學(xué)曲面加工的先進(jìn)拋光工藝，原理是利用噴嘴噴射出混有磨料粒子的高速拋光液作用于光學(xué)鏡頭表面，粒子間的高速碰撞和剪切可使得材料快速去除，獲得較高質(zhì)量的表面，具有加工柔性高、無(wú)熱損傷、操作靈活、無(wú)磨具損傷等優(yōu)點(diǎn)。

由于普通的液體可控性仍然較差，還可采用磁射流液代替普通的磨料射流，在磁場(chǎng)作用下取得較好的穩(wěn)定性，進(jìn)一步減少邊緣效應(yīng)和亞表面損傷，在大型非球面的二次修形中有很大的應(yīng)用空間。

（a）普通磨料射流；（b）磁射流液；（c）磁場(chǎng)下的磁射流液

06離子束拋光
離子束拋光可實(shí)現(xiàn)原子量級(jí)上無(wú)應(yīng)力、非接觸式的拋光效果。其原理是在真空狀 態(tài)下利用離子源發(fā)出具有 一定能量與空間分布的離子束來轟擊 光學(xué)鏡片表面，光學(xué)表面的原子在獲得足夠大的能量后將 擺脫表面束縛，發(fā)生物理濺射效應(yīng)而實(shí)現(xiàn)原子級(jí)的拋光。

離子束拋光原理

由于具有拋光精度高、無(wú)亞表面損傷、高穩(wěn)定性等優(yōu)點(diǎn)，同時(shí)加工中不存在邊緣效應(yīng)以及表面 和亞表面損傷的問題，離子束拋光與磁流變拋光被公認(rèn)為近三十年來在光學(xué)加工領(lǐng)域*為**的兩大技術(shù)。不過作為一種原子量級(jí)的拋光技術(shù)，離子束拋光的去除效率較低，適用于大口徑非球 面鏡實(shí)現(xiàn)*終高精度面形要求。目前利用離子束拋光制造非球面的光刻物鏡，其面形精度RMS已經(jīng)可達(dá)到1nm。

07激光拋光
使用激光對(duì)材料進(jìn)行去除時(shí)，有兩種作用機(jī)理：一種是采用納秒或皮秒激光，利用激光的熱效應(yīng)，使工件表面相對(duì)高峰區(qū)域的材料在激光的作用下熔融，并在表面張力的作用下流向相對(duì)低谷的區(qū)域再凝固，從而提高金屬表面的面形精度，這種拋光也叫熱激光拋光，具有較高的去除速率，但對(duì)材料的熱沖擊較為明顯，限制了加工的精度；另一種是采用飛秒激光利用激光的光化學(xué)效應(yīng)，工件表面材料由于吸收了激光的光子，導(dǎo)致化學(xué)鍵斷開或者晶格結(jié)構(gòu)破壞，從而實(shí)現(xiàn) 材料去除，與熱激光拋光相反，這種冷激光拋光不會(huì)給周圍的材料帶來熱影響，精度高，但去除速率也較慢，在大口徑非球面鏡的拋光應(yīng)用上受到限制。

熱激光vs冷激光

小結(jié)

非球面光學(xué)鏡片通過設(shè)計(jì)不一致的曲率半徑，能夠?yàn)楣鈱W(xué)系統(tǒng)帶來近乎**的成像，但也給拋光工藝帶來了極大的挑戰(zhàn)。因此，光學(xué)加工需要廣泛吸納光學(xué)、電學(xué)、電磁學(xué)、流體力學(xué)、分析化學(xué)、機(jī)械設(shè)計(jì)、自動(dòng)控制、計(jì)算機(jī)技術(shù)等先進(jìn)科學(xué)，才能適應(yīng)現(xiàn)代光學(xué)制造的發(fā)展要求。

目前，基于彈性力學(xué)基礎(chǔ)理論的應(yīng)力盤拋光技術(shù)等是實(shí)現(xiàn)大 口徑光學(xué)非球面鏡高效率研拋的主要手段，而基于多能場(chǎng)的磁流變拋光技術(shù)、離子束拋光、激光拋光技術(shù)等則是實(shí)現(xiàn)非球面鏡高精度修形的必要手段，如要保證現(xiàn)代光學(xué)制造高效率和高精度的要求，則可采取多種加工技術(shù)的組合。

英國(guó)TAYLOR HOBSON的光學(xué)測(cè)量?jī)x器，可以對(duì)非球面光學(xué)鏡片、自由曲面光學(xué)鏡片等進(jìn)行**的面型測(cè)量。相關(guān)儀器有：PGI OPTICS、PGI FREEFORM、LUPHOSCAN等，是行業(yè)公認(rèn)的標(biāo)桿品牌。

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